DTU stempel med 30 nm detaljer
Nanolitografi-holdet Juni 2009 præsenterer her et nyt DTU stempel til de helt små papirstørrelser
Jeg er spændt på hvad de siger i hovedadministrationen når de ser de nye "lidt mere" præcise stempler; de mindste dimensioner er omkring 30 nm. 33422 Nanolithography holdet lagde i sidste øjeblik inden deadline i fredags DTU logoet ind på et designmønster der ellers indeholder nanoskopiske elektrodegab til en ny type molekylære sensorer. 
Mønsteret er defineret med DTU DANCHIPS elektronstråle litografi system i silicium, og derefter ætset med RIE (Reactive Ion Etching) så bogstaverne bliver til 400 nm høje fremspring. Igår blev stemplerne så brugt som nanoimprint stempler, og idag har de studerende været i Nanoteket ned på DTU Fysik for at lave karakterisering af de imprintede strukturer med AFM (atomic force mikroskopi). På fredag eksamen.
Vi (mig og Anders Kristensen) er ret spændt på at se om der kommer noget ud af DTU logo-mønsteret... stemplet er i al fald fantastisk flot.
Respekt til Esben, Martin, Jeppe, Christian N, Christian H, Sebastian, Jakob, Thomas, Anas, Morten, Peter, Christan Ø samt hjælpelærere og hjælpere Morten, Mads, Mikkel, Henrik m.fl.:), der for denne "stempling" i sidste spilleminut indkasserer øl i fredagsbaren.
1
