blogs kategori-billede

"Nanoblogien" i punkt 0.00085 skrift

Af Peter Bøggild,  tirsdag 19. jan 2010 kl. 12:37

Nanoblogien har fået nyt hoved og logo med ned til 30 nm liniebredde.

I de tre intense uger DTU Nanotechs nanolitografi-kursus står på, skal de 12 studerende igennem et stort program. De arbejder med både nanoimprint og elektronstrålelitografi, med teori, simuleringer og praktisk arbejde i rentrummet, med en ny deadline hver dag.

Teknikker der gør det muligt at definere strukturer ned til 10-20 nm i størrelse, på en hel silicium skive af gangen. Elektronstråle litografi gør det muligt, nanoimprint gør det billigt.



Kurset er ambitiøst, og går nok til stregen af hvad der er rimeligt at forlange af en ingeniørstuderende, samt tester Murphys lov hver dag. Der er ikke plads til mange Man eller Machine sammenbrud, før der er dømt udskridning.

Sveden springer fra panden, og sekunderne tikker til deadline som kulminationen af en hård uge med Monte Carlo beregninger, beregninger af polymerers evne til at ændre opløselighed ved elektron-bombardement, vurderinger af forskellige typer elektronkanoner (hvordan overtaler man elektroner til at forlade et metal? hvordan får man den ultimative opløsning), elektronoptik (hvordan laver man en elektron linse?), elektronspredning (hvordan bevæger en 100 keV elektron sig i silicium?), proximity effekter og så videre....

Den (nano)teknologiske case er denne gang "JAWS" - serier af elektroder med en så lille afstand som muligt (helst omkring 10 nm eller mindre), der skal fungere som kontakter til ledende organiske molekyler - et forsøg på at lave en ny type sensor.

Fredag kl. 14.00 skal en designfil med elektronstråle mønstre være færdig, så processeringen kan komme igang over weekenden.

Midt i travlheden får holdet så listet en nanoudgave af "NANOBLOGIEN" logoet med på stemplet... Ingeniøren har kvitteret ved at udskifte den gamle grafik med det nye elektronmikroskop billede (desværre stadig med mit gamle fjæs, som de studerende sært nok ikke havde lyst til at tegne op).

Bogstaverne er 300 nm høje, og har en liniebredde på blot 100 nm, og det er gået forbløffende godt med at få defineret bogstaverne korrekt - lige på nær hullet i et af o'erne. På det tiltede billede kan man se at de kunstneriske streger til dels er forsvundet, men der hvor de stadig står er de omkring 30 nm brede - og 300 nm høje. Det er imponerende!

Man bliver helt rørt.



Her er en række "JAWS" nanogab, set med 45 graders vinkel.



De mindste elektrodegab blev omkring 20 nm i første forsøg, hvorimod dødtrætte studerende snildt gabte 8-9 centimeter ved 17-tiden flere af dagene...



19. jan 2010 kl 15:05

avatar

Poul-Henning Kamp

Fedt!

Nej hvor fedt!

Vi kan som en fodnote oplyse at skriften har typografisk punktstørrelse 0.00085 :-)

Poul-Henning


19. jan 2010 kl 15:36

Rud Wacherhausen Wichmann

Re: Fedt!

Øv!

Det må vel udelukke min HPLaser 1020 - ikk'


19. jan 2010 kl 17:11

avatar

Peter Bøggild

Målet er nået!

Ved at zoome ind i det tiltede view af *bogstaverne" kan man se et mellemrum tydeligt, der er klart mindre end 20 nm. Mit gæt er 10 nm, men det kræver et skarpere billede for at opløse det (og det er ikke nemt). Men det kunne godt se ud som om at gabene mellem bogstaverne er endnu mindre end de mellem elektroderne. Hvis der virkelig er et 10 nm gab mellem de 300 nm høje bogstaver er det faktisk noget af en bedrift - det er meget svært at lave høje strukturer tæt på hinanden (high aspect ratio) med litografiske metoder... ikke mindst på den absurde skala.


Ny i debatten? Opret en brugerkonto

  • Seneste nyt
  • Mest læste
  • Debatterede
 

Nyhedsbrev

Tilmeld dig vores nyhedsbrev.